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Publications

  1. L. Colalongo; G. Verzellesi; L. Quarella; D. Passeri; Benno Margesin; C. Ciampolini; M. Rudan,
    Device Level Simulation of Ion-Sensitive FETs,
    Proceedings of the ISSDT Conference,
    1995
  2. Flavio Giacomozzi; Severino Pedrotti; Franco Moscon,
    TiN Diffusion Barrier and Ti cap for Double Metal I.C. Interconnects,
    The development of a TiN diffusion barrier for a double metal technology based on the use of Low Temperature Oxide (LTO) as intermetal dielectric is described. Processing problems are reviewed and discussed. This technology is to be used for the scale down of the Irst CCD7CMOS process,
    1995
  3. Cristiana Armaroli; Alberto Lui; Benno Margesin; Vittorio Zanini; Mario Zen; Alfredo Maglione; Giovanni Soncini,
    Sensori ChemFET per il controllo ambientale,
    2° Congresso nazionale sui materiali per Ingegneria - AIMAT 94,
    1994
    , pp. 577-
    584
    , (2° Congresso nazionale sui materiali per Ingegneria - AIMAT 94,
    Trento, Italy,
    19/09/1994 - 21/09/1994)
  4. Flavio Giacomozzi; Maurizio Boscardin,
    Uso dell'RF cleaning per la riduzione della resistenza dei contatti intermetal in strutture a doppio livello di metallizzazione,
    I dispositivi prototipo prodotti in IRST, utilizzando un doppio livello di metallizzazione, hanno presentato una elevata resistenza dei contatti intermetal, dovuta principalmente alla presenza di ossido di Al all'interfaccia tra i due strati. La pulizia dei contatti mediante RF cleaning, immediatamente prima della deposizione del secondo strato di Al, si è mostrata efficace consentendo di ridurre notevolmente la resistenza di contatto e di migliorarne l'uniformità. Il rapporto descrive la tecnica usata ed i risultati ottenuti sia nella fase di messa a punto che nell'ambito di un processo completo CCD/CMOS,
    1994
  5. Giovanni Soncini; Alberto Lui; Benno Margesin; Vittorio Zanini; Mario Zen,
    Contratto IRST/Technobiochip. Sensori CHEMFET`s,
    1994
  6. Giovanni Soncini; Alberto Lui; Benno Margesin; Vittorio Zanini; Mario Zen,
    Contratto IRST/Technobiochip. Sensori LAPS.,
    1994
  7. Pierluigi Bellutti; Maurizio Boscardin; Flavio Giacomozzi; Severino Pedrotti; Mario Zen; Giovanni Soncini,
    Thin film technology in the development of IRST-CCD/CMOS VLSI fabrication process,
    A.I.V.,
    no publisher,
    1993
    , (A.I.V.,
    Bolzano, Italy,
    1970)
  8. Maurizio Dapor; Guido Cicolini; Flavio Giacomozzi; Maurizio Boscardin; G. Queirolo,
    Seeman-Bohlin x-ray diffraction study of Al-1%Si thin films used in ULSI devices,
    in «MATERIALS LETTERS»,
    vol. 13,
    1992
    , pp. 142 -
    146
  9. Diego Bisero; Maurizio Dapor; Benno Margesin,
    X-ray diffraction study of P-doped polycrystalline Si thin films used in ULSI devices,
    in «MATERIALS LETTERS»,
    vol. 14,
    1992
    , pp. 303 -
    306
  10. Benno Margesin; M.C. Vecchi; Mario Zen; Nicola Zorzi; Massimo Rudan,
    Electro-optical characterization of photosensors for solid state imagers,
    ESSDERC `92,
    no publisher,
    1992
    , (ESSDERC `92,
    Leuven, Belgio,
    14/09/1992 - 17/09/1992)

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